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聚集離子-電子雙束顯微鏡
聚集離子-電子雙束顯微鏡
聚集離子-電子雙束顯微鏡
用于金屬、半導體等固體樣品上制備微納結構、精確定向制備高質量透射電鏡樣品等

設備型號:HELIOS G4 UX


原產地/供應商:美國/THERMO FISHER

主要用途

聚焦離子/電子雙束電鏡可用于金屬、半導體等固體樣品上制備微納結構、精確定向制備高質量透射電鏡樣品等。結合附件可實現樣品元素分布、相分布和晶粒取向等多種微觀結構分析。


項目介紹

設備參數/指標

電子束和離子束最佳工作距離分辨率:

  ≤0.7 nm @ 1kV(非減速模式)

Ga離子束分辨率:≤2.5 nm @ 30 kV

EDS探測器能量分辨率:Mn 保證優(yōu)于127 eV

元素分析范圍:Be4Cf98

EBSD標定速率:在線標定速度高達400 /

納米機械手最小步長:≤50 nm

樣品臺傾轉角度:-10°~60°


功能配置

內置二次電子/背散射電子探測器

ICE 二次離子探測器 

/碳沉積氣體

液態(tài)Ga離子源

EDS/EBSD

三維重構







樣品要求


結果展示


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