設備型號:HELIOS G4 UX
原產地/供應商:美國/THERMO FISHER
主要用途
聚焦離子/電子雙束電鏡可用于金屬、半導體等固體樣品上制備微納結構、精確定向制備高質量透射電鏡樣品等。結合附件可實現樣品元素分布、相分布和晶粒取向等多種微觀結構分析。
項目介紹
設備參數/指標
l 電子束和離子束最佳工作距離分辨率:
≤0.7 nm @ 1kV(非減速模式)
l Ga離子束分辨率:≤2.5 nm @ 30 kV
l EDS探測器能量分辨率:Mn Kα保證優(yōu)于127 eV
l 元素分析范圍:Be4~Cf98
l EBSD標定速率:在線標定速度高達400 點/秒
l 納米機械手最小步長:≤50 nm
l 樣品臺傾轉角度:-10°~60°
功能配置
l 內置二次電子/背散射電子探測器
l ICE 二次離子探測器
l 鉑/碳沉積氣體
l 液態(tài)Ga離子源
l EDS/EBSD
l 三維重構
樣品要求
結果展示
服務質量第一時間反饋專人處理,保證及時解決問題
所有產品均可開具發(fā)票請在下單時選擇填寫
因過失行為導致用戶直接損失,均可享受“平臺責任保障”
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適用于材料斷口形貌和微觀組織觀察、微區(qū)成分定性和半定量分析等

具有獨特的低真空、環(huán)境真空模式,廣泛應用于測試各種材料

具有普通掃描電鏡對材料表面微觀形貌的觀察

主要用于納微米尺度下的切割、加工,透射樣品制備等工作

可完成復雜的納米操作

用于金屬、半導體等固體樣品上制備微納結構、精確定向制備高質量透射電鏡樣品等

廣泛應用于材料科學、納米顆粒、生物醫(yī)學、食品藥品、紡織纖維、地質科學等領域

主要用于較大樣品的微觀尺度形貌觀察,以及微區(qū)元素分析;配合拉伸臺,可以進行原位觀察
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