設備型號：AMBER GMU TOF-SIMS
原產地/供應商：捷克/TESCAN
主要用途
超高分辨率電鏡聯用系統可完成復雜的納米操作，搭載飛行時間二次離子質譜能完成從H開始的輕元素檢出分析和微量元素分析工作，結合能譜儀和EBSD，可以完成微區成分及晶體結構取向分析。
項目介紹
設備參數/指標
l 離子束分辨率：2.5 nm @ 30 kV
l TOF -SIMS質譜分辨率：不低于800，質量數范圍不小于1 - 2500
l 元素含量檢出限：ppm量級
l 元素范圍：從H開始的任意元素
l EBSD：在線標定速度高達4500 點/秒
功能配置
l 液態金屬鎵離子源
l 鉑/碳沉積氣體
l 集成TOF-SIMS系統
樣品要求
結果展示
服務保障
- 我們承諾
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- 平臺保障
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- 安全保障
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