設備型號:QUATTRO S
原產地/供應商:美國/THERMO FISHER
主要用途
場發射環境掃描電子顯微鏡具有獨特的低真空、環境真空模式,廣泛應用于測試各種材料,如金屬材料、高分子材料、無機材料(礦物、巖土、甚至含水分材料)等的樣品表面二次電子形貌信息,背散射電子組分區分,能譜元素成分分析。
項目介紹
設備參數/指標
l 加速電壓:200 V – 30 kV
l 電子束流:1 pA -200 nA
l 高真空分辨率:1.0 nm(SE,30 kV)
l 低真空分辨率:1.3 nm(SE,30 kV)
l 環境真空分辨率:1.3 nm(SE,30 kV)
l 最大樣品高度:85 mm
l 樣品臺傾轉角度:-15° to + 90°
功能配置
l 高分辨肖特基場發射電子槍
l 壓差真空系統保護裝置
l 70mm2電制冷能譜儀
l SmartScan智能掃描和圖像導航
樣品要求
結果展示
服務質量第一時間反饋專人處理,保證及時解決問題
所有產品均可開具發票請在下單時選擇填寫
因過失行為導致用戶直接損失,均可享受“平臺責任保障”
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適用于材料斷口形貌和微觀組織觀察、微區成分定性和半定量分析等

具有獨特的低真空、環境真空模式,廣泛應用于測試各種材料

具有普通掃描電鏡對材料表面微觀形貌的觀察

主要用于納微米尺度下的切割、加工,透射樣品制備等工作

可完成復雜的納米操作

用于金屬、半導體等固體樣品上制備微納結構、精確定向制備高質量透射電鏡樣品等

廣泛應用于材料科學、納米顆粒、生物醫學、食品藥品、紡織纖維、地質科學等領域

主要用于較大樣品的微觀尺度形貌觀察,以及微區元素分析;配合拉伸臺,可以進行原位觀察