主要用途

原位掃描電子顯微分析系統除了具有普通掃描電鏡對材料表面微觀形貌的觀察，微區元素分析以及晶體結構分析外，還可用于研究材料的原位拉伸，高溫實驗中微觀組織結構的變化，以及變化過程中元素及晶體結構的變化情況。

項目介紹

設備參數/指標

l 電鏡分辨率：0.7 nm @15 kV （SE）

l             0.6 nm @1 kV(Inlens)

l 放大倍率：12-2,000,000×

l 探針電流：不小于20 nA；束流穩定性優于0.2% /h

l 加速電壓：0.02 kV ～ 30 kV，連續10V可調

l 樣品臺：X ≥ 130 mm，Y ≥ 130 mm，Z ≥ 50 mm，

l         -4~70°（傾斜），360°（旋轉）

l 真空度：電子槍：優于10-7 Pa

l         樣品室：優于2.7×10-4 Pa

l 樣品臺傾轉角度：-10°~60°

功能配置

l 樣品室內二次電子探測器

l 樣品室內背散射電子探測器

l 鏡筒內Inlens二次電子探測器

l 鏡筒內能量選擇背散射探測器

l 能譜儀EDS

l 電子背散射衍射儀EBSD

l 原位臺（加熱、拉伸、剪切、彎曲）

樣品要求

結果展示