設(shè)備型號:EVO25
原產(chǎn)地/供應(yīng)商:德國/ZEISS
設(shè)備型號:EVO25
原產(chǎn)地/供應(yīng)商:德國/ZEISS
主要用途
超大樣品倉掃描電子顯微鏡主要用于較大樣品的微觀尺度形貌觀察,以及微區(qū)元素分析;配合拉伸臺,可以進(jìn)行原位觀察。
項(xiàng)目介紹
設(shè)備參數(shù)/指標(biāo)
l 分辨率(SE and W):3.0 nm@ 30 kV
l 分辨率(VP with BSD):4.0 nm@ 30 kV
l 加速電壓:0.2 – 30 kV
l EDS探測器能量分辨率:Mn Kα保證優(yōu)于127 eV
l 元素分析范圍:Be4~Cf98
l 最大樣品高度:210 mm
l 最大樣品直徑:300 mm
l 最大樣品重量:5 kg
功能配置
l 二次電子探測器
l 背散射電子探測器
l 樣品室CCD相機(jī)
l 五軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng)樣品臺
l 能譜儀
l 原位拉伸臺
樣品要求
結(jié)果展示
服務(wù)質(zhì)量第一時(shí)間反饋專人處理,保證及時(shí)解決問題
所有產(chǎn)品均可開具發(fā)票請?jiān)谙聠螘r(shí)選擇填寫
因過失行為導(dǎo)致用戶直接損失,均可享受“平臺責(zé)任保障”
服務(wù)質(zhì)量第一時(shí)間反饋專人處理,保證及時(shí)解決問題

適用于材料斷口形貌和微觀組織觀察、微區(qū)成分定性和半定量分析等

具有獨(dú)特的低真空、環(huán)境真空模式,廣泛應(yīng)用于測試各種材料

具有普通掃描電鏡對材料表面微觀形貌的觀察

主要用于納微米尺度下的切割、加工,透射樣品制備等工作

可完成復(fù)雜的納米操作

用于金屬、半導(dǎo)體等固體樣品上制備微納結(jié)構(gòu)、精確定向制備高質(zhì)量透射電鏡樣品等

廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、納米顆粒、生物醫(yī)學(xué)、食品藥品、紡織纖維、地質(zhì)科學(xué)等領(lǐng)域

主要用于較大樣品的微觀尺度形貌觀察,以及微區(qū)元素分析;配合拉伸臺,可以進(jìn)行原位觀察
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