設備型號:PHENOM PROX
原產地/供應商:荷蘭/PHENOM
主要用途
臺式掃描電鏡具有體積小巧、操作簡便、快速抽真空、不用噴金觀測不導電樣品等優勢,廣泛應用于材料科學、納米顆粒、生物醫學、食品藥品、紡織纖維、地質科學等領域。
項目介紹
設備參數/指標
l 電子放大倍數:80~150,000倍
l 電子光學分辨率:優于10 nm@BSE,8 nm@SE
l 光學放大倍率:20~134倍
l 電子光學照明:CeB6燈絲
l 加速電壓:5~15 kV
l 能譜儀有效面積:25 mm2
l 元素能量分辨率:<135eV(Mn Kα)
功能配置
l 電鏡能譜一體機
l 高精度電子槍
l 背散射探頭
l 二次電子探頭
樣品要求
結果展示
服務質量第一時間反饋專人處理,保證及時解決問題
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因過失行為導致用戶直接損失,均可享受“平臺責任保障”
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適用于材料斷口形貌和微觀組織觀察、微區成分定性和半定量分析等

具有獨特的低真空、環境真空模式,廣泛應用于測試各種材料

具有普通掃描電鏡對材料表面微觀形貌的觀察

主要用于納微米尺度下的切割、加工,透射樣品制備等工作

可完成復雜的納米操作

用于金屬、半導體等固體樣品上制備微納結構、精確定向制備高質量透射電鏡樣品等

廣泛應用于材料科學、納米顆粒、生物醫學、食品藥品、紡織纖維、地質科學等領域

主要用于較大樣品的微觀尺度形貌觀察,以及微區元素分析;配合拉伸臺,可以進行原位觀察