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高分辨率三維分析系統(tǒng)
高分辨率三維分析系統(tǒng)
高分辨率三維分析系統(tǒng)
在亞微米級(jí)空間分辨率下對(duì)樣品進(jìn)行三維無(wú)損成像

設(shè)備型號(hào):XRADIA 620 VERSA


原產(chǎn)地/供應(yīng)商:德國(guó)/ZEISS

主要用途

1、在亞微米級(jí)空間分辨率下對(duì)樣品進(jìn)行三維無(wú)損成像;

2、與原位力學(xué)裝置、升溫系統(tǒng)、應(yīng)力腐蝕系統(tǒng)結(jié)合,可以實(shí)現(xiàn)“多場(chǎng)耦合”下4D原位分析技術(shù)。


項(xiàng)目介紹

設(shè)備參數(shù)/指標(biāo)

最高空間分辨率:500 nm

最小可實(shí)現(xiàn)體素:40 nm

最大電壓/功率:160 kV/25 W

最大承重/樣品直:25 kg/300 mm

CCD探測(cè)器像素?cái)?shù)量及像素尺寸:

2048×2048/13.5 μm

平板探測(cè)器像素?cái)?shù)量及像素尺寸:

3072×1944/75 μm

光電耦合物鏡探測(cè)器類型:0.4×4× 

  20× 40× 

原位分析系統(tǒng)最大載荷:5 kN

原位分析系統(tǒng)溫度范圍:-20 ℃-160 ℃

功能配置


高功率高能量微焦點(diǎn)射線源;

搭配多類型探測(cè)器:CCD探測(cè)器、平板探測(cè)器、光電耦合物鏡探測(cè)器;

具有吸收襯度+相位襯度兩種成像方式;

具有拼接、寬視場(chǎng)掃描模式,增大掃描范圍;

支持在拉伸、壓縮和溫度環(huán)境下的4D原位成像。



樣品要求


結(jié)果展示


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